تابش لیزر

چکیده

تابش لیزر کاربردهای مختلفی از ساخت ، ذوب و تبخیر نانوذرات گرفته تا تغییر شکل ، ساختار ، اندازه و توزیع اندازه آنها را نشان داده است. پلاسمای ناشی از لیزر برای کاربردهای مختلف تشخیصی و فن آوری به عنوان تشخیص ، رسوب لایه نازک و شناسایی اولیه استفاده شده است. تداخل های احتمالی گونه های اتمی یا مولکولی برای تعیین مواد آلی ، معدنی یا بیولوژیکی استفاده می شود که اجازه می دهد برنامه های حیاتی در دفاع (مین های زمینی ، مواد منفجره ، پزشکی قانونی (اثری از مواد منفجره یا مواد آلی) ، بهداشت عمومی (مواد سمی محصولات دارویی) یا محیط زیست) (ضایعات آلی).   پلاسمای ناشی از لیزر برای مواد آلی به طور بالقوه سیستم های حسگر سریعی را برای ردیابی مواد منفجره و شناسایی و تجزیه و تحلیل عامل بیولوژیکی پاتوژن فراهم می کند. فرایند فرسایش لیزر با جذب انرژی الکترونیکی (~ fs) آغاز می شود و در تجدید ذرات (~ ms) به پایان می رسد. سپس ، فرایند فرسایش می تواند توسط فرآیندهای حرارتی ، غیر حرارتی یا ترکیبی از هر دو اداره شود. انواع مختلفی از مدل ها وجود دارد ، به عنوان مثال ، مدل های حرارتی ، مکانیکی ، فتوفیزیکی ، فتوشیمیایی و نقص ، که فرایند فرسایش را با یک مکانیزم غالب توصیف می کنند فقط فرآیند اشتعال پلاسما شامل شکستن پیوند و محافظت از پلاسما در هنگام پالس لیزر است sms روی کمیت و شکل انرژی (جنبشی ، یونیزاسیون و تحریک) که اتم ها و یون ها می توانند بدست آورند تأثیر می گذارد. انبساط پلاسما به جرم و انرژی اولیه در ستون بستگی دارد. این فرایند توسط خصوصیات اولیه پلاسما (تراکم الکترون ، دما ، سرعت) پس از پالس لیزر و محیط انبساط اداره می شود. در طی اولین میکروثانیه پس از پالس لیزر ، انبساط ست آدیاباتیک است و پس از آن تابش خط به مکانیسم غالب اتلاف انرژی تبدیل می شود.