کاربردهای لیزر اگزایمر

کاربردهای لیزر اگزایمر

طول موج های کوتاه در ناحیه طیفی فرابنفش تعدادی از کاربردها را ممکن می سازد:

تولید الگوهای بسیار ظریف با روش‌های فوتولیتوگرافی (میکرولیتوگرافی)، به عنوان مثال در تولید تراشه‌های نیمه‌رسانا

پردازش مواد لیزری با ابلیشن یا برش لیزری (مثلاً روی پلیمرها)، با بهره‌گیری از طول جذب بسیار کوتاه در حد چند میکرومتر در بسیاری از مواد، به طوری که یک جریان پالس متوسط ​​چند ژول در سانتی‌متر مربع برای فرسایش کافی است.

رسوب لیزر پالسی

علامت گذاری لیزری و ریزساختار شیشه ها و پلاستیک ها

آنیل لیزری، به عنوان مثال در ساخت نمایشگر

ساخت توری های الیافی براگ

چشم پزشکی (جراحی چشم)، به ویژه برای اصلاح بینایی با تغییر شکل قرنیه با لیزرهای ArF در 193 نانومتر. روش‌های رایج کراتومیلوسیس درجا با لیزر (LASIK) و کراتکتومی فوتورفراکتیو (PRK) است.

درمان پسوریازیس با لیزر XeCl در 308 نانومتر

پمپاژ لیزرهای دیگر، به عنوان مثال. لیزرهای رنگی خاص

محرک های همجوشی هسته ای

فوتولیتوگرافی در ساخت دستگاه های نیمه هادی یک کاربرد بسیار مهم است. در اینجا، فوتوریست ها بر روی ویفرهای نیمه هادی فرآوری شده با نور فرابنفش پرقدرت از طریق ماسک های نوری ساختاریافته تابش می شوند. نور فرابنفش پرقدرت، همانطور که می‌توان با لیزرهای اکسایمر تولید کرد، برای بدست آوردن زمان‌های پردازش کوتاه و درنتیجه توان عملیاتی بالا ضروری است، در حالی که طول موج‌های کوتاه به فرد اجازه می‌دهد ساختارهای بسیار ظریفی بسازد (با تکنیک‌های بهینه‌شده حتی بسیار کمتر از طول موج نوری). با این حال، آخرین پیشرفت‌ها در لیتوگرافی به طول موج‌های کوتاه‌تر در اشعه ماوراء بنفش شدید (EUV) نیاز دارد، به عنوان مثال. در 13.5 نانومتر که دیگر نمی توان با لیزر اگزایمر تولید کرد. برخی منابع پلاسمایی تولید شده توسط لیزر به عنوان جانشین لیزرهای اگزایمر در آن ناحیه توسعه یافته اند. با این حال، می‌توان انتظار داشت که لیزرهای اگزایمر برای ساخت بسیاری از تراشه‌های نیمه‌رسانا برای مدت طولانی مورد استفاده قرار گیرند، زیرا تنها پیشرفته‌ترین تراشه‌های کامپیوتری به ساختارهای ظریف‌تری نسبت به چنین تکنیک‌هایی نیاز دارند.