طیف سنجی جذب

رویکردهای خاص

طیف سنجی نجومی

طیف سنجی حلقه ای حفره ای (CRDS)

طیف سنجی جذب لیزری (LAS)

طیف سنجی Mössbauer 

طیف سنجی جذب

طیف سنجی جذب به تکنیک های طیف سنجی اشاره دارد که جذب تابش را به عنوان تابعی از فرکانس یا طول موج ، به دلیل برهم کنش با نمونه اندازه گیری می کند. نمونه انرژی ، یعنی فوتون ها را از میدان تابشی جذب می کند. شدت جذب به عنوان تابعی از فرکانس متفاوت است و این تنوع طیف جذب است. طیف سنجی جذب در طیف الکترومغناطیسی انجام می شود.

طیف سنجی جذب لیزری دیود قابل تنظیم

طیف سنجی جذب لیزری دیود قابل تنظیم (TDLAS ، که گاهی اوقات به عنوان TDLS ، TLS یا TLAS  نیز نامیده می شود) تکنیکی برای اندازه گیری غلظت گونه های خاصی مانند متان ، بخار آب و بسیاری دیگر ، در مخلوط گازی با استفاده از لیزرهای دیود قابل تنظیم و طیف سنجی جذب لیزری.  مزیت TDLAS نسبت به سایر تکنیک های اندازه گیری غلظت توانایی آن در دستیابی به محدوده های تشخیص بسیار پایین (از نظر ppb) است. به غیر از غلظت ، همچنین می توان دما ، فشار ، سرعت و شار جرمی گاز تحت نظر را تعیین کرد. TDLAS تا کنون رایج ترین روش جذب مبتنی بر لیزر برای ارزیابی کمی گونه ها در مرحله گاز است.

تاریخچه لیزر اشعه ایکس

پس از اینکه تد میمن اولین لیزر را در 1960 نشان داد ، جامعه نوری بلافاصله شروع به جستجوی طول موج های کوتاهتر و کوتاهتر ، از طریق مرئی و ماوراء بنفش کرد. در اوایل دهه 1970 ، لیزرها به فرابنفش خلاء رسیده بودند. با این حال ، فشار به سمت طول موج های کوتاه تر در حدود 110 نانومتر متوقف شد زیرا مشکلات مربوط به فیزیک لیزر طول موج کوتاه ایجاد شد.

لیست مقالات فیزیک پلاسما

نانو شعله ها

نانوذرات

موتور پلاسمونی در مقیاس نانو

نانوشل

آزمایش ملی جمع و جور Stellarator 

لیست مقالات فیزیک پلاسما

تنزیل

پوشش ساینده

نیروی ابراهیم -لورنتز

باند جذب

دیسک برافزایشی

هسته فعال کهکشانی 

فهرست مقالات موج

منشور ابه

طیف سنجی جذب

طیف جذب

موج سنج جذب

موج صوتی

معادله موج صوتی 

امواج در پلاسماها

امواج مغناطیسی هیدرودینامیکی

معادله اپلتون-هارتری

پلاسمون

رزونانس پلاسمون سطحی

فهرست مقالات موج

لیست مقالات فیزیک پلاسما

امواج (جونو) (فضاپیما در مدار مشتری)

زیر سیستم موج پلاسما (ابزار روی کاوشگرهای وویجر)

دایره المعارف فیزیک پلاسما

اختصارات یا زبان عامیانه با معنای مشابه 

LEPECVD - کم انرژی پلاسما باعث افزایش رسوب بخار شیمیایی MPECVD - مایکروویو افزایش بخار شیمیایی رسوب MPACVD - مایکروویو پلاسما بخار شیمیایی رسوب PACVD - پلاسما با کمک شیمیایی رسوب بخار PE - CV PECVD-رسوب بخار شیمیایی با افزایش پلاسما PEPVD-رسوب بخار فیزیکی افزایش یافته با پلاسما RF-PECVD-فرکانس رادیویی افزایش یافته بخار شیمیایی با پلاسما RMPECVD-مایکروویو از راه دور پلاسما با افزایش بخار شیمیایی رسوب گذاری-RECVPVVV - 

رزونانس سیکلوترون الکترون (ECR)

در فیزیک پلاسما

یک پلاسمای یونیزه ممکن است با قرار دادن یک میدان مغناطیسی ایستا و یک میدان الکترومغناطیسی با فرکانس بالا در فرکانس رزونانس سیکلوترون الکترون به طور م producedثر تولید یا گرم شود. در میدان های مغناطیسی toroidal که در تحقیقات انرژی همجوشی مغناطیسی استفاده می شود ، میدان مغناطیسی با شعاع اصلی کاهش می یابد ، بنابراین محل رسوب قدرت را می توان در حدود یک سانتی متر کنترل کرد. علاوه بر این ، قدرت گرمایش را می توان به سرعت تعدیل کرد و مستقیماً به الکترون ها رسوب کرد.