رسوب لیزر پالس

رسوب لیزر پالس (PLD) یک تکنیک رسوب بخار فیزیکی (PVD) است که در آن یک پرتوی لیزر با پالس با قدرت بالا در داخل یک محفظه خلاء متمرکز شده است تا به یک هدف از ماده ای که قرار است سپرده شود ضربه وارد کند. این ماده از هدف (در یک ستون پلاسما) تبخیر می شود که آن را به عنوان یک فیلم نازک روی یک بستر (مانند ویفر سیلیکونی که به سمت هدف قرار دارد) رسوب می کند. این فرایند می تواند در خلاء فوق العاده بالا یا در صورت وجود یک گاز پس زمینه ، مانند اکسیژن که معمولاً هنگام رساندن اکسیدها برای اکسیژن رسانی کامل به فیلم های رسوبی استفاده می شود ، رخ دهد.

در حالی که تنظیم اولیه نسبت به بسیاری از تکنیک های رسوب دیگر ساده است ، پدیده های فیزیکی تعامل با هدف لیزر و رشد فیلم کاملاً پیچیده است (به روند زیر مراجعه کنید). هنگامی که پالس لیزر توسط هدف جذب می شود ، ابتدا انرژی به تحریک الکترونیکی و سپس به انرژی حرارتی ، شیمیایی و مکانیکی تبدیل می شود که منجر به تبخیر ، فرسایش ، تشکیل پلاسما و حتی لایه برداری می شود.گونه های بیرون زده به شکل یک ستون حاوی گونه های پرانرژی از جمله اتم ها ، مولکول ها ، الکترون ها ، یون ها ، خوشه ها ، ذرات و گلوبول های مذاب ، قبل از رسوب در بستر معمولاً داغ ، به داخل خلاء اطراف گسترش می یابند.