رسوب پالسی لیزر

رسوب لیزر پالس (PLD) یک روش رسوب فیزیکی بخار (PVD) است که در آن یک پرتو لیزر پالسی با قدرت بالا در داخل محفظه خلا  متمرکز می شود تا به هدف از ماده ای که قرار است رسوب کند ، برخورد کند. این ماده از هدف (در یک تکه پلاسما) بخار می شود که آن را به صورت یک فیلم نازک روی یک لایه (مانند ویفر سیلیکونی که رو به هدف است) رسوب می دهد. این فرآیند می تواند در خلاuum بسیار زیاد یا در حضور یک گاز پس زمینه مانند اکسیژن که معمولاً هنگام رسوب اکسیدها برای اکسیژن کامل لایه های رسوب شده استفاده می شود ، رخ دهد.

رسوب لیزر پالس